[发明专利]确定方法、信息处理装置、曝光装置以及物品制造方法有效
| 申请号： | 201710401847.4 | 申请日： | 2017-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN107450277B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 永井善之 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及确定方法、信息处理装置、曝光装置以及物品制造方法。一种确定方法，确定曝光装置中的曝光条件，所述曝光装置通过利用投影光学系统将原版的图案投影到基板而对所述基板进行曝光，所述确定方法包括：设定工序，设定所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的、将(r，θ)设为极坐标、将n设为自然数、将f(r)设为r的函数而通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量；以及确定工序，确定曝光条件，以使作为所述分量所致的聚焦位置的变化量的聚焦灵敏度收敛于目标范围。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 方法 信息处理 装置 曝光 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
一种确定方法，确定曝光装置中的曝光条件，所述曝光装置通过利用投影光学系统将原版的图案投影到基板而对所述基板进行曝光，所述确定方法的特征在于，包括：设定工序，设定所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的、将(r，θ)设为极坐标、将n设为自然数、将f(r)设为r的函数而通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量；以及确定工序，确定曝光条件，以使作为所述分量所致的聚焦位置的变化量的聚焦灵敏度收敛于目标范围。
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