[发明专利]掩膜板及其制作方法有效
申请号: | 201710409355.X | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN107422598B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 刘明星;周丽芳;王徐亮;侯炜轩 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 王乐 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种掩膜板及其制作方法。上述掩膜板包括:掩膜板基体,掩膜板基体具有AA区以及非AA区,且掩膜板基体包括相对的第一表面和第二表面,AA区具有贯穿掩膜板基体的第一开口,非AA区具有位于第一表面上的第二开口;以及第一电铸层,位于掩膜板基体的第一表面上,且第一电铸层露出第一开口,并覆盖第二开口。上述掩膜板中,由于掩膜板基体的AA区与非AA区分别具有第一开口和第二开口,且第一电铸层露出第一开口,并覆盖第二开口,不会影响蒸镀效果。同时,非AA区与AA区均设置了开口,能够避免在张网过程中掩膜板上AA区与非AA区的过渡区域产生突变,有利于AA区的稳定,从而有利于提高图案蒸镀的效果,提升产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括:掩膜板基体,所述掩膜板基体具有AA区以及非AA区,且所述掩膜板基体包括相对的第一表面和第二表面,所述AA区具有贯穿所述掩膜板基体的第一开口,所述非AA区具有位于所述第一表面上的第二开口;以及第一电铸层,位于所述掩膜板基体的第一表面上,且所述第一电铸层露出所述第一开口,并覆盖所述第二开口。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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