[发明专利]曝光装置、器件制造系统及器件制造方法

摘要

具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。

主权项

1.一种曝光装置，在具有挠性的长条的基板上投影曝光出光罩图案，其具有：光罩保持筒，其设置成能够绕第1轴旋转，并沿着相对于所述第1轴以一定的曲率半径而成的圆筒状的图案面保持所述光罩图案；基板支承筒，其设置成能够绕与所述第1轴平行的第2轴旋转，通过相对于所述第2轴以一定的曲率半径而成的圆筒状的支承面的一部分支承所述基板，并且使所述基板沿长条的方向移动，所述曝光装置的特征在于，还设有：投影光学系统，其具有部分光学系统和导光光学系统，该部分光学系统入射来自被保持在所述光罩保持筒上的所述光罩图案的第1投影光，并在规定的中间像面上形成所述光罩图案的中间像，该导光光学系统将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将通过了所述中间像面后的所述第1投影光作为第2投影光而再次引导至所述部分光学系统，通过入射所述第2投影光的所述部分光学系统将所述中间像再次成像而得到的投影像投影到通过所述基板支承筒支承的所述基板上；以及光量减少部，其为了将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，使通过所述第2投影光形成的所述投影像的成像位置与通过所述第1投影光的一部分泄漏光而形成的不良像的成像位置不同。