[发明专利]一种冗余金属的填充方法及系统有效
申请号: | 201710422995.4 | 申请日: | 2017-06-07 |
公开(公告)号: | CN109002566B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 曹鹤;陈岚;孙艳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 党丽;王宝筠 |
地址: | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种冗余金属的填充方法及系统,在版图中确定出封闭多边形的待填充区域之后,以待填充区域的各条边为界,将基本填充单元相接排布待填充区域中,完成待填充区域的填充,而后,进行网格密度分析,将网格密度过大的网格进行基本填充单元的调整,以防止过填充。该方法以待填充区域的各条边为界限,进行满填充,不会出现漏填区域,并进行网格密度的分析,避免过填充的出现,提高冗余金属填充的有效性和效率,进而提升产品良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 冗余 金属 填充 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种冗余金属的填充方法,其特征在于,包括:在版图中确定待填充区域,所述待填充区域为封闭的多边形;以待填充区域的各条边为界限,将基本填充单元依次相接进行排布,直到排满所述待填充区域,以获得填充后的版图,所述基本填充单元包括冗余填充区域和所述冗余填充区域外的间隔区域;对所述填充后的版图进行网格划分,并获得各网格的网格密度;获得网格密度超过预设阈值的过填充网格,并分别对所述过填充网格进行基本填充单元的调整,以使得所述过填充网格的网格密度低于预设阈值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710422995.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。