[发明专利]加强构造体、真空腔室和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201710430613.2 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107527783B | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 田中孝幸;笠原稔大;山田洋平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够谋求所期望的轻量化的加强构造体、具有那样的加强构造体的真空腔室和等离子体处理装置。一种加强构造体(4)，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其中，加强构造体(4)具有：环状部(44)，其是梁构件(中央部(41a)、中央部(42a))呈环状形成于盖体的上表面(顶壁(3a)的上表面)的中央部而成的；放射状部(45)，其以多个梁构件(端部(41b)、端部(42b)、第3梁构件(43))从环状部(44)呈放射状延伸的方式形成。 | ||
| 搜索关键词： | 加强 构造 空腔 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种加强构造体，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于所述盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其特征在于，该加强构造体具有：环状部，其是梁构件呈环状形成于所述盖体的上表面的中央部而成的；放射状部，其以多个梁构件从所述环状部呈放射状延伸的方式形成，所述真空腔室呈长方体状，所述盖体的上表面呈矩形形状，所述环状部包括矩形形状的框体，所述放射状部具有从所述环状部的各边沿着与所述环状部的各边正交的方向延伸的梁构件和从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件。
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