[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710437465.7 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107300996B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 彭勇;张鹏举;李鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 11274 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可增强触控信号线与数据线之间间隙位置处的曝光。所述方法包括：在衬底基板上形成绝缘薄膜，并通过构图工艺形成条状挡墙；其中，所述挡墙的宽度小于或等于待形成的第一金属走线和第二金属走线之间的间距；在所述挡墙上形成导电薄膜，并通过涂布光刻胶、曝光、显影及刻蚀工艺在所述挡墙沿延伸方向的两侧分别形成所述第一金属走线和所述第二金属走线。用于使触控信号线与数据线之间间隙位置处充分曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板应用于触控与显示驱动器集成的触控产品，其特征在于，包括：/n在衬底基板上形成绝缘薄膜，并通过构图工艺形成条状挡墙；其中，所述挡墙的宽度等于待形成的第一金属走线和第二金属走线之间的间距；/n在所述挡墙上形成导电薄膜，并通过涂布光刻胶、曝光、显影及刻蚀工艺在所述挡墙沿延伸方向的两侧分别形成所述第一金属走线和所述第二金属走线。/n
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