[发明专利]铁电场效应晶体管、铁电内存与数据读写方法及制造方法在审

专利信息
申请号: 201710448831.9 申请日: 2017-06-14
公开(公告)号: CN109087949A 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 刘福洲 申请(专利权)人: 萨摩亚商费洛储存科技股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;G11C11/22
代理公司: 深圳精智联合知识产权代理有限公司 44393 代理人: 夏声平
地址: 萨摩亚阿皮*** 国省代码: 萨摩亚;WS
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本案提供一种铁电场效应晶体管。在此铁电场效应晶体管中,依序设置半导体基底、介电层、极性保存区及导体层。极性保存区则包括了一层铁电层以及一层反铁电层。藉由铁电层的电耦切换,可以加快内存的操作速度。本案也提供一种铁电内存以及铁电内存的数据写入方法、数据读取方法及制造方法。
搜索关键词: 铁电场效应晶体管 铁电内存 保存区 铁电层 半导体基底 反铁电层 数据读取 数据读写 导体层 介电层 电耦 内存 制造 写入
【主权项】:
1.一种铁电场效应晶体管,其特征在于,该铁电场效应晶体管包括:一半导体基底,具有一上表面,该半导体基底由半导体材料制成,并掺杂有一第一型导电材料;一第一掺杂区,形成于该半导体基底中,该第一掺杂区掺杂有一第二型导电材料;一第二掺杂区,形成于该半导体基底中并与该第一掺杂区分离,该第二掺杂区掺杂有该第二型导电材料;一介电层,设置于该上表面之上,该介电层接触该上表面并覆盖至少部分的该第一掺杂区及至少部分的该第二掺杂区;一极性保存区,与该半导体基底设置于该介电层的相对两侧,该极性保存区包括一铁电层以及一反铁电层;以及一导体层,与该介电层设置于该极性保存区的相对两侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于萨摩亚商费洛储存科技股份有限公司,未经萨摩亚商费洛储存科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710448831.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top