[发明专利]氟化结构化有机膜层在审
申请号: | 201710456049.1 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107561879A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | G·M·麦圭尔;杨素霞;N-X·胡;E·C·萨维奇;R·W·赫德里克 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 李丙林,王玉桂 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明披露一种成像构件,其包括基底、电荷产生层、电荷传输层;和包含结构化有机膜(SOF)的最外层,所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块,其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量%到约20重量%的量存在于所述SOF中。 | ||
搜索关键词: | 氟化 结构 有机 | ||
【主权项】:
一种成像构件,其包含:基底;电荷产生层;电荷传输层;和包含结构化有机膜(SOF)的最外层,所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块,其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量%到约20重量%的量存在于所述SOF中。
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