[发明专利]一种阵列基板及其制作方法和液晶显示面板

摘要

本发明公开了一种阵列基板及其制作方法和液晶显示面板。在第二金属层上铺设整面ITO层，在第二金属层的漏极对应位置处的钝化层设置有贯穿的通孔，以使得像素电极层的像素电极通过所述通孔与所述ITO层电性连接，并且所述ITO层与所述第二金属层电性连接。即本发明在传统的PSVA像素中的像素电极下方增加一层ITO层，形成新型PSVA像素，由于ITO层是整面铺设，因此沟槽部分也能与上基板ITO形成电场，使液晶倾斜，贡献此部分的透过率。因此，本发明能有效提高穿透率，并且能优化性能。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板表面上设置第一金属层，以形成栅电极层图案；在所述第一金属层上设置绝缘层；在所述绝缘层上设置有源层，以形成有源层图案；在所述有源层上设置第二金属层，以形成源漏极层图案；铺设整层ITO层，所述ITO层与所述第二金属层的漏极电性连接；在所述ITO层上设置钝化层，以形成钝化层图案；通过蚀刻在所述漏极对应位置处形成通孔；进行像素电极层的沉积形成像素电极图案，以使得所述像素电极图案通过所述通孔与所述ITO层电性连接。