[发明专利]一种纳米银导电膜的蚀刻膏配方在审

专利信息
申请号: 201710473851.1 申请日: 2017-06-21
公开(公告)号: CN107385444A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 司荣美;潘中海;刘彩风 申请(专利权)人: 天津宝兴威科技股份有限公司
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30
代理公司: 天津市新天方有限责任专利代理事务所12104 代理人: 张强
地址: 301800 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供一种纳米银导电膜的蚀刻膏配方,按重量由下述组分组成SiO2基质3‑30份;蚀刻剂0.1‑10份;吸水剂1‑20份;聚乙二醇5‑15份;丙二醇10‑20份;草酸1‑10份;氟化合物0.1‑7份;保护剂0.1‑5份;表面活性剂0.001‑2份。本发明提供的蚀刻膏中不含有强酸和强碱,环境污染小;而且氟化合物的加入能够使蚀刻膏快速渗透到需要蚀刻的材料中,提高了蚀刻速率。
搜索关键词: 一种 纳米 导电 蚀刻 配方
【主权项】:
一种纳米银导电膜的蚀刻膏配方,其特征在于,按重量由下列组分组成:
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