[发明专利]基板处理单元、烘焙装置及基板处理方法

摘要

公开了一种加热基板的加热单元。该加热单元包括壳体，其在其内部提供处理空间；加热板，其在处理空间中支撑基板；加热构件，其设置在加热板中并且被配置为对由加热板支撑的基板进行加热处理；排气构件，其被配置为将在壳体的内部空间中的气体排出；和外部气体供给部件，其安装在壳体中并且被配置为将外部气体供给到处理空间中，其中外部气体供给部件包括多个入口，其设置在壳体中；和多个流速调节构件，其分别安装在入口中并且被配置为调节被引入到入口中的外部气体的流速。

主权项

一种加热单元，包括：壳体，所述壳体在其内部提供处理空间；加热板，所述加热板在所述处理空间中支撑基板；加热构件，所述加热构件设置在所述加热板中并且被配置为对由所述加热板支撑的所述基板进行加热处理；排气构件，所述排气构件被配置为将在所述壳体的内部空间中的气体排出；和外部气体供给部件，所述外部气体供给部件安装在所述壳体中并且被配置为将外部气体供给到所述处理空间中，其中所述外部气体供给部件包括：多个入口，所述多个入口设置在所述壳体中；和多个流速调节构件，所述多个流速调节构件分别安装在所述入口中并且被配置为调节被引入到所述入口中的外部气体的流速。