[发明专利]一种大深槽双面铝基板的制作方法在审
申请号: | 201710484961.8 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN107205319A | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 黄明安;刘天明 | 申请(专利权)人: | 四会富士电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 526236 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种大深槽双面铝基板的制作方法,实现的步骤是A、开铝料,铝料表面拉丝;B、铝料烘烤;C、铝料钻大孔和深槽;D、使用PP压合填充大深槽,剥离PP;E、铝面进行特殊氧化处理,压合PP和铜箔;F、钻靶位孔铣边;G、钻孔和正常的沉铜电镀等双面板流程;本方法操作简单、质量可靠、成本低、生产周期短。 | ||
搜索关键词: | 一种 大深槽 双面 铝基板 制作方法 | ||
【主权项】:
一种大深槽双面铝基板的制作流程,其特征包括以下步骤:A、 开铝料,铝料表面拉丝;B、 铝料烘烤;C、铝料钻大孔和深槽;D、使用PP压合填充大深槽,剥离PP;E、铝面进行特殊氧化处理,压合PP和铜箔;F、钻靶位孔铣边;G、钻孔和正常的沉铜电镀等双面板流程。
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