[发明专利]等离子体成膜装置和基板载置台有效
| 申请号： | 201710485227.3 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107546096B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 今中雅士;中西敏雄;本多稔;小谷光司 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够得到具有所希望的膜厚均匀性的膜的等离子体成膜装置和使用它的基板载置台。等离子体成膜装置包括：用于收纳基板的腔室；用于在腔室内载置基板的基板载置台；对腔室内供给包含成膜气体的气体的气体供给机构；对腔室内进行排气的排气机构；和使腔室内生成等离子体的等离子体生成机构，基板载置台包括：比基板的直径小且具有载置面的载置台主体；配置在载置台主体的外侧的形成环状的调整部件，调整部件设置成可更换，并且作为调整部件准备多个在基板的外侧的位置具有各种台阶差的调整部件，能够使用从多个调整部件中根据等离子体处理的处理条件选择的调整部件。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 装置 基板载置台 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体成膜装置，其特征在于，包括：用于收纳基板的腔室；用于在所述腔室内载置基板的基板载置台；对所述腔室内供给包含成膜气体的气体的气体供给机构；对所述腔室内进行排气的排气机构；和使所述腔室内生成等离子体的等离子体生成单元，通过所述等离子体生成单元，由所生成的等离子体激励所述成膜气体来在所述基板上成膜规定的膜，所述基板载置台包括：直径比所述基板的直径小且具有载置面的载置台主体；配置在所述载置台主体的外侧的呈环状的调整部件，所述调整部件设置成可更换，并且作为所述调整部件准备多个在基板的外侧的位置具有各种台阶差的调整部件，能够使用从多个所述调整部件中根据等离子体处理的处理条件选择的调整部件，所述调整部件包括：与所述载置面为相同高度的内周部；和与所述内周部之间形成所述台阶差的外周部。
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