[发明专利]一种半色调掩膜板有效
| 申请号： | 201710496938.0 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107145034B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 陈中明 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/32 | 分类号： | G03F1/32;G02F1/13 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半色调掩膜板，包括开口区和遮光区，所述开口区包括部多个部分透光的第一开口和多个全透光的第二开口；多个所述第一开口的口径不完全相同，且多个所述第一开口的透光率也不完全相同，以使各所述第一开口曝光的图形的尺寸大小相等，所述第一开口曝光的图形为辅柱状隔垫物，所述第二开口曝光的图形为主柱状隔垫物。本发明能够防止薄膜晶体管液晶显示器产生亮度不均匀且使用方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 色调 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种半色调掩膜板，其特征在于，包括开口区和遮光区，所述开口区包括多个部分透光的第一开口和多个全透光的第二开口；多个所述第一开口的口径不完全相同，且多个所述第一开口的透光率也不完全相同，以使各所述第一开口曝光的图形的尺寸大小相等，所述第一开口曝光的图形为辅柱状隔垫物，所述第二开口曝光的图形为主柱状隔垫物。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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