[发明专利]真空处理装置和真空处理方法以及存储介质有效
申请号: | 201710499341.1 | 申请日: | 2017-06-27 |
公开(公告)号: | CN107546097B | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 松井久;三浦知久;笠原稔大;大泽秀和;赤池宗明 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种在处理容器内对被处理体进行真空处理的真空处理装置和真空处理方法。对处理容器(10)连接第一排气路径(41)和第二排气路径(42),并且在第一排气路径(41)设置作为自动调整阀的第一阀(51),在第二排气路径(42)设置能够从3个阶段的开度中选择开度的作为半固定阀的第二阀(52)。第一阀(51)的开度基于处理容器(10)内的压力检测值和压力设定值进行自动调整。第二阀(52)的开度被控制成在超过作为该阀的压力调整界限而预先确定的阈值时基于第一阀(51)的开度检测值来进行自动变更。由此,在第一阀的压力控制无效之前,能够自动变更第二阀的开度,从而能够在宽的范围稳定地进行压力控制。 | ||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种真空处理装置,其特征在于,包括:处理容器,在其内部对被处理体进行真空处理;各自的一端侧与所述处理容器连接的第一排气路径和第二排气路径;检测所述处理容器内的压力的压力检测部;自动调整阀,其设置在所述第一排气路径,基于所述压力检测部的压力检测值和压力设定值,对排气路径的传导进行自动调整;半固定阀,其设置在所述第二排气路径,被设定为选自预先确定的至少3个开度中的开度;检测所述自动调整阀的开度的开度检测部;和控制部,其在由所述开度检测部检测出的所述自动调整阀的开度检测值超过作为压力调整界限而预先确定的阈值时,输出控制信号,使所述半固定阀的开度变更为所述预先确定的开度中的其它的开度,以扩大压力调整范围,所述阈值设定为所述自动调整阀的开度的节流侧的阈值和打开侧的阈值,所述控制部,在所述自动调整阀的开度检测值大于所述节流侧的阈值的情况下,以提高所述第二排气路径的排气能力的方式变更所述半固定阀的开度,在所述自动调整阀的开度检测值小于所述打开侧的阈值的情况下,以降低所述第二排气路径的排气能力的方式变更所述半固定阀的开度。
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