[发明专利]一种工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法有效
| 申请号： | 201710504429.8 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107311181B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 魏奎先;田春瑾;马文会;李绍元;谢克强;伍继君;于洁;雷云;吕国强 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037;B82Y30/00 |
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| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，属于资源综合利用和纳米硅颗粒制备技术领域。首先将捕集到的工业硅硅灰进行表面清洗，去除硅灰表面附着物后干燥；然后高能球磨获得粒度为1000nm纳米硅颗粒；将粒度为1000nm纳米硅颗粒湿法处理2～12h，湿法处理完成后清洗、干燥；将纳米硅颗粒超细磨10～60h得到100nm纳米硅颗粒；将得到的100nm纳米硅颗粒二次湿法处理h，最终经清洗、干燥后得到高纯纳米硅颗粒。本发明为工业硅破碎过程中产生硅灰的高附加值利用提供了有效的途径。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工业 硅硅灰 制备 高纯 纳米 颗粒 方法 | ||
【主权项】：
1.一种工业硅硅灰制备高纯纳米硅颗粒的方法，其特征在于具体步骤如下：/n（1）首先将捕集到的工业硅硅灰进行表面清洗，去除硅灰表面附着物后干燥；/n（2）然后以600～1500转/min高能球磨2～20h获得粒度为1000nm纳米硅颗粒；/n（3）将步骤（2）得到的粒度为1000nm纳米硅颗粒根据液固比为2：1～8：1mL/g加入酸性试剂，并添加活化添加剂，在温度为40～90℃湿法处理2～12h，湿法处理完成后清洗、干燥；/n（4）将经步骤（3）湿法处理的纳米硅颗粒以600～1500转/min超细磨10～60h得到100nm纳米硅颗粒；/n（5）将步骤（4）得到的100nm纳米硅颗粒根据液固比为2：1～10：1mL/g加入酸性试剂，并添加活化添加剂，在温度为45～90℃二次湿法处理2～24h，最终经清洗、干燥后得到高纯纳米硅颗粒。/n
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