[发明专利]一种以四核钴为节点的框架配位材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710507250.8 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107226913B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 余凡;熊芯;李艾华;胡思前;刘继延 申请(专利权)人: 江汉大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 王虹
地址: 430056 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种以四核钴为节点的框架配位材料及其制备方法,制备方法包括如下步骤:1)配制反应液:将4‑(二‑N,N‑苯甲酸甲基)氨基苯甲酸与钴盐加入溶剂中,常温条件下充分搅拌溶解,得到反应液;2)结晶反应:将步骤1)所得的反应液置于温度为75~95℃的烘箱中反应20‑28小时后降温,得到块状紫色晶体,再依次进行过滤、洗涤处理,即得以四核钴为节点的框架配位材料。
搜索关键词: 一种 四核钴 节点 框架 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种以四核钴为节点的框架配位材料,其特征在于,所述以四核钴为节点的框架配位材料以正四面体型四核钴为二级构筑单元与配体L进行配位自组装形成三维框架晶体结构,所述以四核钴为节点的框架配位材料化学式为{Co4O(L)2(H2L)2}·8H2O·8DMF,化学式中配体L为4‑(二‑N,N‑苯甲酸甲基)氨基苯甲酸,DMF为N,N‑二甲基甲酰胺;所述以四核钴为节点的框架配位材料的分子结构式如(Ⅰ)所示:其中n为≥1的整数。
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