[发明专利]基于XRD优选硅质物料的方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201710518773.2 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN107389709B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 任雪红;张文生;叶家元;董刚;张洪滔;汪智勇 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20;C04B7/02
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种基于XRD优选硅质物料的方法及其应用。测定方法包括,研磨硅质物料;采用XRD衍射仪对所述的物料进行测试;计算其中石英101晶面衍射峰的绝对强度与总峰强的比值R;将XRD数据扣除CuKα2衍射,并去背底处理后绘图,得到石英101面衍射峰的峰位θX和半高宽Δθ,同时将XRD数据进行归一化处理,计算石英101面XRD衍射峰强度积分面积A;计算所述的硅质物料的惰性系数Ds,Ds=R/(A*Δθ*COSθx)。本发明提供的测定方法,可用于对硅质物料的品质进行判定,有利于对物料进行合理选择。
搜索关键词: 基于 xrd 优选 物料 方法 及其 应用
【主权项】:
1.一种基于XRD优选硅质物料的方法,其特征在于:包括,研磨所述的硅质物料,得到第一粉料;采用XRD仪器对所述的第一粉料进行测试,得到所述的第一粉料的XRD数据,所述的XRD数据包括衍射峰位和峰强;计算石英101晶面衍射峰的绝对强度与总强度的比值R;将所述的XRD数据扣除CuKα2衍射,去背底处理后绘图,得到所述的石英101晶面XRD衍射峰的峰位θX和半高宽Δθ;将扣除CuKα2衍射和去背底后的XRD数据进行归一化处理,计算石英的101晶面衍射峰强度积分面积A;计算所述的硅质物料的惰性系数Ds,Ds=R/(A*Δθ*COSθx),根据所述的惰性系数Ds,选择所述的硅质物料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑材料科学研究总院,未经中国建筑材料科学研究总院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710518773.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top