[发明专利]真空泵有效
| 申请号： | 201710533335.3 | 申请日： | 2017-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN107795499B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 木村裕章 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | F04D19/04 | 分类号： | F04D19/04 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种真空泵，能够减少朝向半导体装置腔室内的颗粒的反冲。涡轮分子泵(1)包括：旋转体(4)，由泵转子(4a)紧固于通过马达(10)而旋转驱动的轴(4b)而成；凹部(43)，形成于泵转子(4a)的进气口侧端面；以及平衡修正部件(65)，包括覆盖凹部(43)的盖体部(6)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空泵 | ||
【主权项】：
一种真空泵，其特征在于包括：旋转体，由泵转子紧固于通过马达而旋转驱动的轴而成；凹部，形成于所述泵转子的进气口侧端面；以及转子平衡修正部件，具有覆盖所述凹部的盖体部。
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