[发明专利]埋入式字符线和鳍状结构上栅极的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710537348.8 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN109216433A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 詹电针;林哲平;吕佐文;吴劲苇;王育群;詹书俨 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/28;H01L29/423
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种埋入式字符线和鳍状结构上栅极的制作方法,该埋入式字符线的制作方法为,首先形成一沟槽于一基底,接着进行一沉积制作工艺,以在沟槽的内侧的一侧壁和一底部形成一硅材料层,在沉积制作工艺后,在沟槽内形成一栅极介电层,最后形成一导电层填入沟槽。
搜索关键词: 埋入式 字符线 沉积制作工艺 鳍状结构 制作 栅极介电层 导电层填 硅材料层 基底
【主权项】:
1.一种埋入式字符线的制作方法,包含:形成一沟槽于一基底;进行一沉积制作工艺,以在该沟槽的内侧的一侧壁和一底部形成一硅材料层;在该沉积制作工艺后,在该沟槽内形成一栅极介电层;以及形成一导电层填入该沟槽。
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