[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710537845.8 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN107121890A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 何晓龙;关峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 代理人: 林桐苒,李丹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种纳米压印模板的制备方法及纳米压印模板,该方法包括提供基板,在所述基板上形成遮光条,所述遮光条将所述基板分隔为多个区域,每个区域对应一个待拼接的纳米压印模板单元;在所述基板及所述遮光条上涂覆压印胶;将所述纳米压印模板单元压印在其对应的区域的压印胶上;从所述基板远离所述压印胶的一侧照射紫外光,使得所述压印胶固化;将所述纳米压印模板单元从所述压印胶上脱模;去除所述遮光条上未固化的压印胶,以形成所述纳米压印模板。
搜索关键词: 一种 纳米 压印 模板 及其 制备 方法
【主权项】:
一种纳米压印模板的制备方法,其特征在于,包括:提供基板,在所述基板上形成遮光条,所述遮光条将所述基板分隔为多个区域,每个区域对应一个待拼接的纳米压印模板单元;在所述基板及所述遮光条上涂覆压印胶;将所述纳米压印模板单元压印在其对应的区域的压印胶上;从所述基板远离所述压印胶的一侧照射紫外光,使得所述压印胶固化;将所述纳米压印模板单元从所述压印胶上脱模;去除所述遮光条上未固化的压印胶,以形成所述纳米压印模板。
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