[发明专利]多电极串行半导体光放大器在审
申请号: | 201710568929.8 | 申请日: | 2017-07-13 |
公开(公告)号: | CN107171179A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 于丽娟;邹灿文;刘建国;祝宁华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042;H01S5/323 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种多电极串行半导体光放大器,包括衬底;n面电极,形成于衬底的第一表面;n型多层结构,形成于衬底的第二表面,包括n型下限制层,形成于衬底上;n型波导层,形成于n型下限制层上;有源层,形成于n型多层结构上;p型多层结构,形成于有源层上,包括p型界面层,形成于有源层上;p型上限制层,形成于p型界面层上;p型欧姆接触层,形成于p型p型上限制层上;p面电极,形成于p型多层结构上,其包括N个串行电极,用于使载流子从各个串行电极同时注入到有源区,其中,N≥2。通过多电极串行电流多点注入,可解决大功率半导体光放大器的散热问题,提高光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 电极 串行 半导体 放大器 | ||
【主权项】:
一种多电极串行半导体光放大器,包括:衬底(10);n面电极(60),形成于衬底(10)的第一表面;n型多层结构(20),形成于衬底(10)的第二表面,包括:n型下限制层(22),形成于衬底(10)上;n型波导层(23),形成于n型下限制层(22)上;有源层(30),形成于n型多层结构(20)上;p型多层结构(40),形成于有源层(30)上,包括:p型界面层(41),形成于有源层(30)上;p型上限制层(42),形成于p型界面层(41)上;p型欧姆接触层(44),形成于p型p型上限制层(42)上;p面电极(50),形成于p型多层结构(40)上,其包括:N个串行电极(53),用于使载流子从各个串行电极同时注入到有源区,其中,N≥2。
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