[发明专利]氧化锆陶瓷的研磨方法有效

专利信息
申请号: 201710587814.3 申请日: 2017-07-18
公开(公告)号: CN109262373B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 张文杰;谢庆丰;彭毅萍 申请(专利权)人: 东莞华晶粉末冶金有限公司
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B19/22;B24B37/00;B24B29/02;C09K3/14
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 刘佩
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种氧化锆陶瓷的研磨方法。一种氧化锆陶瓷的研磨方法,包括以下步骤:采用磨削液和金刚石砂轮对氧化锆陶瓷进行磨削处理4min~6min;采用氮化硼研磨液和铸铁盘对氧化锆陶瓷进行粗磨处理5min~6min;采用第一金刚石研磨液和第一铜盘对氧化锆陶瓷进行中磨处理20min~30min;采用第二金刚石研磨液和第二铜盘对氧化锆陶瓷进行精磨处理15min~25min;及采用抛光垫及抛光液对氧化锆陶瓷进行抛光处理50min~70min。上述氧化锆陶瓷的研磨方法先进行磨削处理,再经过粗磨处理降低表面粗糙度和平面度,经过中磨处理及精磨处理进一步降低裂纹深度、表面粗糙度和平整度,减小抛光处理时的加工难度,总的加工时间低于130min,加工时间明显降低,提高了加工效率,且加工产品的良率有所提高。
搜索关键词: 氧化锆 陶瓷 研磨 方法
【主权项】:
1.一种氧化锆陶瓷的研磨方法,其特征在于,包括以下步骤:采用磨削液和金刚石砂轮对氧化锆陶瓷进行磨削处理4min~6min;采用氮化硼研磨液和铸铁盘对所述氧化锆陶瓷进行粗磨处理5min~6min;采用第一金刚石研磨液和第一铜盘对所述氧化锆陶瓷进行中磨处理20min~30min;采用第二金刚石研磨液和第二铜盘对所述氧化锆陶瓷进行精磨处理15min~25min;及采用抛光垫及抛光液对所述氧化锆陶瓷进行抛光处理50min~70min。
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