[发明专利]聚对二甲苯有机高分子薄膜干式镀膜制程

摘要

本发明公开了一种聚对二甲苯有机高分子薄膜干式镀膜制程，包括置入被镀对象于批次式等离子真空镀膜设备之舱体中并抽真空、施以等离子体技术、再次施以等离子体技术、置入被镀对象于聚对二甲苯有机高分子真空镀膜设备之舱体中并抽真空、以气相沉积的方式形成均匀的聚对二甲苯有机高分子薄膜于被镀对象之表面的孔隙内等步骤。藉此，可确实达到提升聚对二甲苯有机高分子薄膜与被镀对象之间的附着度、使奈米级的聚对二甲苯有机高分子薄膜能更紧密、均匀地包覆于被镀对象之表面之孔隙内之目的。

主权项

1.一种聚对二甲苯有机高分子薄膜干式镀膜制程，包括以下步骤：置入一被镀对象于一批次式等离子真空镀膜设备之舱体中并抽真空；选用适合于该被镀对象之材质之至少一参数并注入与该被镀对象之材质匹配之一气体至该舱体中，并施以等离子体技术，激发抽真空之该舱体中之该气体，以产生离子和电子，该离子冲击剥蚀该被镀对象之表面；选用适合于该被镀对象之材质之该至少一参数并注入与该被镀对象之材质匹配之一气体至该舱体中，再次对该被镀对象施以等离子体技术，并加入活性粒子进行气相沉积；置入该被镀对象于一聚对二甲苯有机高分子真空镀膜设备之舱体中并抽真空；以及选用适合该被镀对象之效能需求之该至少一参数并注入与该被镀对象之效能需求匹配之一聚对二甲苯有机高分子材料于一材料室，经过120～150℃汽化及650～800℃裂解区之裂解后，再进入约25～30℃之一常温沉积室内，于抽真空状态下，以气相沉积的方式形成一均匀的聚对二甲苯有机高分子薄膜于该被镀对象之表面的孔隙内。