[发明专利]阵列基板检测设备和阵列基板检测方法在审

专利信息
申请号: 201710606355.9 申请日: 2017-07-24
公开(公告)号: CN107390392A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 罗昌;刘瑞翔 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 北京布瑞知识产权代理有限公司11505 代理人: 孟潭
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明实施例提供了一种阵列基板检测设备和阵列基板检测方法,解决了现有阵列基板检测方式的检测准确度不高的问题。该阵列基板检测设备包括光发射装置、光束导向装置、透镜组、液晶调制器和图像采集装置;其中,所述光发射装置构造为向所述光束导向装置发射光束;所述液晶调制器包括液晶材料和设置于所述液晶材料一侧的反射面;所述光束导向装置构造为将所述光发射装置所发射的光束导向至所述液晶调制器,并将所述液晶调制器中的所述反射面反射回来的光束导向至所述图像采集装置。
搜索关键词: 阵列 检测 设备 方法
【主权项】:
一种阵列基板检测设备,其特征在于,包括:光发射装置、光束导向装置、透镜组、液晶调制器和图像采集装置;其中,所述光发射装置构造为向所述光束导向装置发射光束;所述液晶调制器包括液晶材料和设置于所述液晶材料一侧的反射面;所述光束导向装置构造为将所述光发射装置所发射的光束导向至所述液晶调制器,并将所述液晶调制器中的所述反射面反射回来的光束导向至所述图像采集装置;其中,所述透镜组设置在所述光束导向装置与所述液晶调制器之间的光学路径上,构造为将所述光束导向装置导向至所述液晶调制器的光束的光照范围聚集在与待检测的阵列基板的像素区域等效的区域范围,以及扩散所述液晶调制器中的所述反射面反射回来的光束。
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