[发明专利]测量设备、测量方法及程序有效
| 申请号： | 201710616268.1 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107656485B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 早野绫一郎;野原康弘;井伊谷育典;关口翔 | 申请（专利权）人： | 双叶电子工业株式会社 |
| 主分类号： | G05B19/048 | 分类号： | G05B19/048;G01D21/02 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 延美花;臧建明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量设备、测量方法及程序。本发明对于由射出成型装置的传感器取得的检测信息，能够作出比一个成型周期的评价更详细的评价。在一个成型周期中，取得配备于射出成型装置的传感器的检测信号。然后利用在指定期间中的检测信号值来进行评价值的计算，指定期间是指一个成型周期的期间内的一部分期间。利用该计算出的评价值来求出射出成型状况的判定结果。即，作为指定期间，可进行与成型周期内的特定一部分期间相关的评价值的计算、判定。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 设备 测量方法 程序 | ||
【主权项】：
一种测量设备，包括：输入部，其能够输入配置于射出成型装置的传感器的检测信号；评价值计算部，其利用在指定期间中输入到所述输入部的检测信号值来计算评价值，其中，所述指定期间被设为所述射出成型装置的一个成型周期的期间内的一部分期间；以及判定处理部，其利用所述评价值计算部计算出的评价值求出射出成型状况的判定结果。
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