[发明专利]一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置在审
| 申请号： | 201710633608.1 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107272266A | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 井杨坤;赖建文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示设备制造领域，公开了一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置，该配向膜涂布方法包括在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的整层膜层进行构图，形成配向膜图案。上述配向膜涂布方法中，先对整版涂布配向膜溶液的衬底基板上的整层膜层进行摩擦配向，之后构图形成配向膜图案，该方法使得配向膜图案的形成位置精度高，边缘控制优良，使得通过该方法制成的配向膜可以凭借高精度的特性应用于超窄边框设计。而且，由于摩擦配向过程中没有段差，有效的避免了摩擦布毛的损伤，可延长摩擦布毛的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 膜涂布 方法 以及 制备 装置 | ||
【主权项】：
一种配向膜涂布方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对所述整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。
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