[发明专利]一种图形转角的OPC修正方法有效
| 申请号： | 201710636987.X | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107479331B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 张月雨;汪悦;毛智彪 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图形转角的OPC修正方法，包括以下步骤：S01：输入含有目标图形的原始版图，其中，位于目标图形中两个邻边夹角为90度的顶点为凸角转角，位于目标图形中两个邻边夹角为270度的顶点为凹角转角；S02：对原始版图做转角处理，得到修正目标层，所述转角处理具体为：在凸角转角的外部添加至少一个的矩形修正图形；在凹角转角的内部挖除至少一个的矩形修正图形；S03：对修正目标层做基于模型的OPC修正，得到掩模层。本发明提供的一种图形转角的OPC修正方法，通过对不同的转角做添加或挖除矩形修正图形的处理，能够获得比传统方法更好的转角修正结果，解决由于转角严重圆化所导致的叠层误差和覆盖面积不足等工艺热点问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 转角 opc 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种图形转角的OPC修正方法，其特征在于，包括以下步骤：S01：输入含有目标图形的原始版图，其中，位于目标图形中两个邻边夹角为90度的顶点为凸角转角，位于目标图形中两个邻边夹角为270度的顶点为凹角转角，所述凸角转角和凹角转角的两个邻边长度大于该原始版图的最小线宽；S02：对原始版图做转角处理，得到修正目标层，所述转角处理具体为：在凸角转角的外部添加至少一个矩形修正图形，添加的矩形修正图形的对角线均位于该凸角转角的角平分线上，且矩形图形的一个顶点与该凸角转角重合或者位于该凸角转角所在的目标图形中，添加的矩形修正图形不与该凸角转角所在的目标图形以外的其他目标图形重合；在凹角转角的内部挖除至少一个矩形修正图形，该矩形修正图形的一个顶点与该凹角转角重合或者位于该凹角转角所在的目标图形外，且其对角线位于该凸角转角的角平分线上，该矩形修正图形的其他顶点均位于该凹角转角所在的目标图形中；S03：对修正目标层做基于模型的OPC修正，得到掩模层。
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