[发明专利]彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置在审
| 申请号： | 201710645586.0 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107390419A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 谷晓飞;付开鹏;华明;石海军;王亮;毕建强 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;B41M5/00;B41J2/01;B41J3/407 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人： | 张京波,曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置。制备方法包括将掩膜版对位设置在基底上，掩膜版设置有镂空区域，镂空区域与基底上设置黑矩阵的位置相对应；向掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在基底上形成黑矩阵；对黑矩阵进行固化处理。喷墨打印装置包括基台，用于承载对位设置好掩膜版的基底；第一喷头，设置在基台的上方，用于向掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在基底上形成黑矩阵。本发明实施例通过喷墨打印技术形成黑矩阵，解决了因采用涂布和光刻工艺形成黑矩阵导致的材料、制造成本高、生产效率低的问题。节省了设备和材料成本，简化了工艺步骤，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制备 方法 喷墨 打印 装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：将掩膜版对位设置在基底上，所述掩膜版设置有镂空区域，所述镂空区域与所述基底上设置黑矩阵的位置相对应；向所述掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在所述基底上形成黑矩阵；对所述黑矩阵进行固化处理。
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