[发明专利]一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置

摘要

本发明公开了一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置，由于在对深紫外光刻胶层进行光刻工艺时，利用了光学的泰伯效应，因此必须在金属层的表面形成减反层，以保障进行光刻工艺时照射在深紫外光刻胶层的深紫外光的光学强度和分布不受影响。相较于现有的制作工序中将减反层设置于硬掩膜板之上且不与金属层接触，本发明实施例由于将减反层直接形成在金属层之上，可以在后续采用等离子体处理工艺，在去除具有刻蚀模板图案的减反层的同时，在金属光栅的表面形成保护膜，即可以省去现有制作工序中单独形成保护层的步骤，可以简化制作工序，提高生产效率。

主权项

一种金属光栅的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上依次形成金属层、减反层和深紫外光刻胶层；采用光刻工艺对所述深紫外光刻胶层进行刻蚀，形成光栅掩膜图案；以所述光栅掩膜图案作为遮挡，采用干刻工艺对所述减反层进行刻蚀，形成与所述光栅掩膜图案相同的刻蚀模板图案；剥离具有所述光栅掩膜图案的深紫外光刻胶层；以所述刻蚀模板图案作为遮挡，采用干刻工艺对所述金属层进行刻蚀，形成金属光栅；采用等离子体处理工艺，在去除具有所述刻蚀模板图案的减反层的同时，在所述金属光栅的表面形成保护膜。