[发明专利]一种实现自身静电放电保护的高压器件有效
申请号: | 201710656774.3 | 申请日: | 2017-08-03 |
公开(公告)号: | CN109390330B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 汪广羊 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 汪洋;高伟 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种实现自身静电放电保护的高压器件,包括:半导体衬底;形成于半导体衬底中的第一N‑阱、P‑阱和第二N‑阱;形成于第一N‑阱中的第一N+离子注入区和第一隔离区;形成于P‑阱中的第二N+离子注入区和紧贴第二N+离子注入区的P+离子注入区;形成于第二N‑阱中的第三N+离子注入区;形成于半导体衬底中的第二隔离区,所述第二隔离区覆盖部分第二N‑阱和部分P‑阱,其中,第二N+离子注入区、P+离子注入区和第三N+离子注入区构成NPN型BJT,通过所述BJT实现所述静电放电保护。根据本发明,可以实现不同电压的静电放电保护,把静电放电保护能力和高压器件参数分离开,降低高压器件开发难度,最终降低成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 实现 自身 静电 放电 保护 高压 器件 | ||
【主权项】:
1.一种实现自身静电放电保护的高压器件,其特征在于,包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底中的第一N‑阱、P‑阱和第二N‑阱;形成于所述第一N‑阱中的第一N+离子注入区和第一隔离区;形成于所述P‑阱中的第二N+离子注入区和紧贴所述第二N+离子注入区的P+离子注入区;形成于所述第二N‑阱中的第三N+离子注入区;形成于所述半导体衬底中的第二隔离区,所述第二隔离区覆盖部分所述第二N‑阱和部分所述P‑阱,其中,所述第二N+离子注入区、所述P+离子注入区和所述第三N+离子注入区构成NPN型BJT,通过所述BJT实现所述静电放电保护。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华润上华科技有限公司,未经无锡华润上华科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710656774.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种功率模组和功率模组加工方法
- 下一篇:半导体装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的