[发明专利]一种实现自身静电放电保护的高压器件有效

专利信息
申请号: 201710656774.3 申请日: 2017-08-03
公开(公告)号: CN109390330B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 汪广羊 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 汪洋;高伟
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种实现自身静电放电保护的高压器件,包括:半导体衬底;形成于半导体衬底中的第一N‑阱、P‑阱和第二N‑阱;形成于第一N‑阱中的第一N+离子注入区和第一隔离区;形成于P‑阱中的第二N+离子注入区和紧贴第二N+离子注入区的P+离子注入区;形成于第二N‑阱中的第三N+离子注入区;形成于半导体衬底中的第二隔离区,所述第二隔离区覆盖部分第二N‑阱和部分P‑阱,其中,第二N+离子注入区、P+离子注入区和第三N+离子注入区构成NPN型BJT,通过所述BJT实现所述静电放电保护。根据本发明,可以实现不同电压的静电放电保护,把静电放电保护能力和高压器件参数分离开,降低高压器件开发难度,最终降低成本。
搜索关键词: 一种 实现 自身 静电 放电 保护 高压 器件
【主权项】:
1.一种实现自身静电放电保护的高压器件,其特征在于,包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底中的第一N‑阱、P‑阱和第二N‑阱;形成于所述第一N‑阱中的第一N+离子注入区和第一隔离区;形成于所述P‑阱中的第二N+离子注入区和紧贴所述第二N+离子注入区的P+离子注入区;形成于所述第二N‑阱中的第三N+离子注入区;形成于所述半导体衬底中的第二隔离区,所述第二隔离区覆盖部分所述第二N‑阱和部分所述P‑阱,其中,所述第二N+离子注入区、所述P+离子注入区和所述第三N+离子注入区构成NPN型BJT,通过所述BJT实现所述静电放电保护。
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