[发明专利]微晶玻璃化学机械抛光方法及微晶玻璃有效
| 申请号： | 201710667071.0 | 申请日： | 2017-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN107529477B | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 曹阳;金军;陈蕊;路新春;沈攀 | 申请（专利权）人： | 清华大学;天津华海清科机电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B37/04;B08B3/12;B08B3/08;B08B11/04;C03C10/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微晶玻璃化学机械抛光方法及微晶玻璃，该方法包括：(1)采用SUBA系列抛光垫和氧化铈抛光液对微晶玻璃进行粗抛光，以便得到粗抛光后微晶玻璃；(2)采用IC系列软抛光垫和硅溶胶碱性抛光液对粗抛光后微晶玻璃进行精抛光，以便得到精抛光后微晶玻璃；(3)采用碱性清洗液对精抛光后微晶玻璃进行兆声清洗，以便得到兆声清洗后微晶玻璃；(4)采用去离子水对兆声清洗后微晶玻璃进行超声清洗，以便得到超声清洗后微晶玻璃；(5)对超声清洗后微晶玻璃进行干燥处理，以便得到抛光后微晶玻璃。采用该方法可以显著提高抛光效率，并且可以加工出粗糙度为亚纳米级别的超光滑玻璃表面。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种微晶玻璃化学机械抛光方法，其特征在于，包括：(1)采用SUBA系列抛光垫和氧化铈抛光液对微晶玻璃进行粗抛光，以便得到粗抛光后微晶玻璃；(2)采用IC系列软抛光垫和硅溶胶碱性抛光液对所述粗抛光后微晶玻璃进行精抛光，以便得到精抛光后微晶玻璃；(3)采用碱性清洗液对所述精抛光后微晶玻璃进行兆声清洗，以便得到兆声清洗后微晶玻璃；(4)采用去离子水对所述兆声清洗后微晶玻璃进行超声清洗，以便得到超声清洗后微晶玻璃；(5)对所述超声清洗后微晶玻璃进行干燥处理，以便得到抛光后微晶玻璃。
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