[发明专利]一种光学临近修正工艺的预处理方法

摘要

本发明提供一种光学临近修正工艺的预处理方法，属于集成电路设计技术领域，包括：将第一图形边朝图形外侧延伸一第一预设距离以得到一菱形的第一图形；将第二图形边朝图形外侧延伸一第二预设距离以得到一预处理覆盖图形，将预处理覆盖图形沿与第二图形边平行的方向延伸一第三预设距离以得到一覆盖部分第一图形的覆盖图形；对第一图形和覆盖图形进行逻辑“非”处理以得到第二图形；对图形和第二图形进行逻辑“或”处理以得到具有一倒角缺口的第一目标图形；对倒角缺口进行三角填充以得到第二目标图形。本发明的有益效果：提高OPC处理结果的准确性与一致性。

主权项

一种光学临近修正工艺的预处理方法，适用于采用设计规则检查工具去除图形的图形边凸起，所述设计规则检查工具提供一网格及一坐标轴，所述图形具有多个图形边，定义与所述图形边凸起邻接的一第一图形边和一第二图形边，其特征在于，所述第一图形边与所述图形边凸起在所述图形内侧成225°，所述第二图形边与所述图形边凸起在所述图形内侧成135°，所述图形边凸起与所述坐标轴的X轴或Y轴重合，每个所述图形边及所述图形边凸起分别位于所述网格上；所述方法包括：步骤S1、将第一图形边朝图形外侧延伸一第一预设距离以得到一菱形的第一图形，第一图形具有一与图形边凸起重合的第一短边、与第一短边平行的第二短边、与第一图形边重合的第一长边及与第一长边平行的第二长边；步骤S2、将第二图形边朝图形外侧延伸一第二预设距离以得到一预处理覆盖图形，将预处理覆盖图形沿与第二图形边平行的方向延伸一第三预设距离以得到一覆盖部分第一图形的覆盖图形；步骤S3、对第一图形和覆盖图形进行逻辑“非”处理以得到第二图形；步骤S4、对图形和第二图形进行逻辑“或”处理以得到具有一倒角缺口的第一目标图形；步骤S5、对倒角缺口进行三角填充以得到第二目标图形。