[发明专利]阵列基板、阵列基板的制备方法和液晶面板在审

专利信息
申请号: 201710686158.2 申请日: 2017-08-11
公开(公告)号: CN107329343A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 向长江 申请(专利权)人: 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 李健,蒋爱花
地址: 215300 江苏省苏州市昆山市开*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及液晶显示领域,公开了一种阵列基板、阵列基板的制备方法和液晶面板,所述阵列基板包括衬底基板(1)、形成于所述衬底基板(1)上的以阵列形式分布的多个像素单元(2),每个所述像素单元包括薄膜晶体管开关(20),所述薄膜晶体管开关包括形成于所述衬底基板(1)上的栅极(200)。该阵列基板能够将经过栅极的光反射回去,从而提高了背光源的利用效率。本发明提供的阵列基板的制备方法使用了较少次数的掩膜版,使得制备方法便于操作,降低了生产成本。本发明提供的阵列基板或由本发明提供的阵列基板的制备方法制备得到的阵列基板应用于所述液晶面板中,能够提高背光源的利用效率,同时降低液晶面板的显示功耗。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 液晶面板
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括衬底基板(1)、形成于所述衬底基板(1)上的以阵列形式分布的多个像素单元(2),每个所述像素单元(2)包括薄膜晶体管开关(20),其中,所述薄膜晶体管开关(20)包括形成于所述衬底基板(1)上的栅极(200),所述栅极(200)包括形成于所述衬底基板(1)上的第一反光层(200a)。
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