[发明专利]支撑装置、光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201710708172.8 | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN107367907B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | S·N·L·唐德斯;M·菲恩;C·A·霍根达姆;M·霍本;J·H·W·雅各布斯;A·H·凯沃特斯;R·W·L·拉法雷;J·V·奥弗卡姆普;N·坦凯特;J·S·C·韦斯特拉肯;A·F·J·德格罗特;M·范贝杰纳姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 装置 光刻 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和提取主体，在所述物体保持件径向外侧并且部分地在所述物体的外周边缘下面延伸，所述提取主体包括被配置为通过在所述提取主体与所述物体之间形成在所述支撑装置的顶面上的间隙提取流体的第一开口和第二开口，其中所述提取主体与所述物体保持件间隔开，使得所述提取主体与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。
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