[发明专利]用于掩膜板的对位装置、蒸镀设备及对位方法有效
| 申请号： | 201710729012.1 | 申请日： | 2017-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN107502859B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 刘金彪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L21/68;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于掩膜板的对位装置、蒸镀设备及对位方法。该对位装置包括：能够分别移动的至少两个磁性件，每一所述磁性件均能够形成均匀磁场，且当每一所述磁性件均位于第一预设位置时，至少两个所述磁性件相组合在第二预设位置形成均匀面磁场；其中，所述掩膜板处于所述第二预设位置时，至少两个所述磁性件相组合所形成面磁场对所述掩膜板施加使所述掩膜板朝所述第一预设位置移动的磁场力。本发明所述对位装置通过设置至少两个磁性件，能够保证每一下垂位置的掩膜板在磁场力作用下均能够以相同移动速度，带动玻璃基板移动，避免掩膜板下垂产生褶皱，造成对位精度不准确的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 磁性件 对位装置 预设位置 对位 移动 蒸镀设备 磁场 褶皱 磁场力作用 玻璃基板 均匀磁场 磁场力 形成面 下垂 施加 保证 | ||
【主权项】：
1.一种用于掩膜板的对位装置，所述掩膜板采用金属材料制成，其特征在于，所述对位装置包括：能够分别移动的至少两个磁性件，每一所述磁性件均能够形成均匀磁场，且当每一所述磁性件均位于第一预设位置时，至少两个所述磁性件相组合在第二预设位置形成均匀面磁场；其中，所述掩膜板处于所述第二预设位置时，至少两个所述磁性件相组合所形成面磁场对所述掩膜板施加使所述掩膜板朝所述第一预设位置移动的磁场力；与掩膜板中产生下垂最大区域对应的磁性件朝掩膜板移动的起始时间早于其他磁性件朝掩膜板移动的起始时间。
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