[发明专利]基板处理装置和喷嘴清洗方法

摘要

本发明涉及一种基板处理装置和喷嘴清洗方法，该基板处理装置的控制装置执行：液柱形成工序，在旋转夹具没有保持基板时，通过使下面喷嘴喷出清洗液，形成从下面喷嘴向上方延伸的液柱；以及，第一下垂部清洗工序，与液柱形成工序并行地执行，通过使上面喷嘴在上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第一位置和上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第二位置之间沿着水平方向往返，使上面喷嘴经过第一中间位置，所述第一中间位置指，在俯视时上面喷嘴的上喷出口与液柱重叠的位置。

主权项

一种基板处理装置，其中，具备：基板保持单元，一边将配置于基板保持位置的基板保持为水平，一边使该基板旋转，下面喷嘴，其作为第一清洗喷嘴，该下面喷嘴朝向所述基板保持位置并向上方喷出液体，第一清洗液供给单元，通过向所述下面喷嘴供给清洗液，使所述下面喷嘴喷出清洗液，上面喷嘴，包括沿着水平方向延伸的水平部、从所述水平部的顶端向下方弯曲的拐角部、从所述拐角部向下方延伸的下垂部、在所述下垂部的下面开口的上喷出口，从所述上喷出口朝向所述基板保持位置并向下方喷出液体，喷嘴移动单元，使所述上面喷嘴至少沿着水平方向移动，以及，控制装置，控制所述第一清洗液供给单元和喷嘴移动单元；所述控制装置执行：液柱形成工序，在所述基板保持单元没有保持基板时，通过使所述下面喷嘴喷出清洗液，形成从所述下面喷嘴向上方延伸的液柱，以及，第一下垂部清洗工序，与所述液柱形成工序并行地执行，通过使所述上面喷嘴在所述上面喷嘴的下垂部没有接触所述液柱的第一位置和所述上面喷嘴的下垂部没有接触所述液柱的第二位置之间水平地往返，使所述上面喷嘴经过第一中间位置，所述第一中间位置指，在俯视时所述上面喷嘴的上喷出口与所述液柱重叠的位置。