[发明专利]设变光谱仪和光谱仪整合设计与制造方法有效

专利信息
申请号: 201710789148.1 申请日: 2017-09-05
公开(公告)号: CN109425430B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 洪健翔;张癸五;邓文城;吴永川;叶展良 申请(专利权)人: 台湾超微光学股份有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇;李有财
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种设变光谱仪的制造方法,包括如下步骤:取得一参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格;整合参照光谱仪的参照参数的至少一必要参数到一设变光谱仪,使设变光谱仪具有相同于参照光谱仪的设定规格;依据光栅方程式得到设变光谱仪的多个自由参数;以及设定设变光谱仪的一设变入光组件于一设变壳体的一设变收光侧,使设变收光侧短于参照光谱仪的一参照壳体的一参照收光侧。
搜索关键词: 光谱仪 整合 设计 制造 方法
【主权项】:
1.一种设变光谱仪的制造方法,其特征在于,包括:取得参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格;整合所述参照光谱仪的所述多个参照参数的至少一必要参数到设变光谱仪,使所述设变光谱仪具有相同于所述参照光谱仪的所述设定规格;依据光栅方程式得到所述设变光谱仪的多个自由参数;设定所述设变光谱仪的设变入光组件于设变壳体的设变收光侧,使所述设变收光侧短于所述参照光谱仪的参照壳体的参照收光侧。
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