[发明专利]一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构

摘要

本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构，包括双层水冷腔体、同轴电缆接头、屏蔽罩，屏蔽罩设置在双层水冷腔体的上方；同轴电缆接头设置在屏蔽罩上，在屏蔽罩与双层水冷腔体之间设置一焊接法兰；焊接法兰的上方设置第一绝缘法兰；第一绝缘法兰上方设置一接线法兰，接线法兰上中心设置一中心圆孔，在其的上方开设一凹槽，设置一进气管；在其两侧各设置一电刷；设置在凹槽内；电刷的一端抵住进气管的外侧；电刷的另一端抵住凹槽的两侧；进气管向下依次穿过第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体；在进气管与第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体之间设置一绝缘套；解决了射频信号引入失效的问题。