[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。能减少使用了光掩模的曝光工序中的杂散光的产生风险。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有对透明基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案，该转印用图案具有透光部、半透光部和遮光部，该制造方法具有：遮光膜图案形成工序，对透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案；半透光膜形成工序，在包含遮光膜图案的透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜，从而形成透光部；半透光膜去除工序，去除遮光膜图案上的半透光膜，在去除工序，在成为半透光部的区域形成抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案在半透光部和遮光部相邻的部分，在遮光部侧有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模具有对在透明基板上形成的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案，该转印用图案具有透光部、半透光部和遮光部，其特征在于，该光掩模的制造方法具有：遮光膜图案形成工序，对所述透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案；半透光膜形成工序，在包含所述遮光膜图案的所述透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除所述半透光膜、或所述半透光膜和所述遮光膜，从而形成所述透光部；以及半透光膜去除工序，去除所述遮光膜图案上的所述半透光膜，在所述半透光膜去除工序中，在成为所述半透光部的区域中形成抗蚀剂图案，所述抗蚀剂图案在所述半透光部和所述遮光部相邻的部分中，在所述遮光部侧具有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。