[发明专利]掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 201710801909.0 | 申请日: | 2017-09-07 |
公开(公告)号: | CN107357130B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 周刚;杨小飞;牟勋;代科;林亚丽;孟佳;郭明周;刘庭良 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G02B3/00;G02F1/29 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板。该掩膜板包括至少一个图案单元,图案单元包括透明基板和设置在透明基板上的半透膜,半透膜的透射率在所述图案单元内部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐渐变化。该透镜阵列包括至少一个透镜单元,该透镜阵列的制备方法包括:使用该掩膜板,通过光刻工艺形成所述透镜阵列,并且所述掩膜板的图案单元与所述透镜单元一一对应。该制备方法工艺简单,成本低廉。该显示面板包括上述透镜阵列,通过透镜阵列对光的折射可以达到调节显示面板视角的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 透镜 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,包括至少一个图案单元,所述图案单元包括透明基板和设置在所述透明基板上的半透膜,所述半透膜的透射率在所述图案单元内部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐渐变化。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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