[发明专利]氧化物半导体、半导体装置、半导体存储装置及固体摄像装置有效

专利信息
申请号: 201710803849.6 申请日: 2017-09-08
公开(公告)号: CN107819030B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 神例信贵;百濑寿代 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/24 分类号: H01L29/24;H01L29/786;H01L27/11526;H01L27/11573;H01L27/146
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的实施方式涉及氧化物半导体、半导体装置、半导体存储装置及固体摄像装置。提供一种提高了耐热性的氧化物半导体、半导体装置、半导体存储装置及固体摄像装置。根据实施方式,提供一种含有铟(In)、镓(Ga)和硅(Si)的氧化物半导体。所述氧化物半导体中的Si与In的组成比(Si/In)大于0.2。所述氧化物半导体中的Si与Ga的组成比(Si/Ga)大于0.2。
搜索关键词: 氧化物 半导体 装置 存储 固体 摄像
【主权项】:
一种氧化物半导体,其含有铟(In)、镓(Ga)和硅(Si),其中,所述氧化物半导体中的Si与In的组成比(Si/In)大于0.2,所述氧化物半导体中的Si与Ga的组成比(Si/Ga)大于0.2。
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