[发明专利]干涉仪及其成像方法有效

专利信息
申请号: 201710804405.4 申请日: 2017-09-08
公开(公告)号: CN107894204B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 张庭玮;李源钦;张启伸;江鸿志;陈顺成 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G01B7/26 分类号: G01B7/26;G01B9/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 徐协成
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 干涉仪及其成像方法,适于检测一待测样品。该干涉仪包括:一光源,提供一光束;一分光元件,接收光源所发出的光束,并将光束分成一第一入射光及一第二入射光,其中第一入射光入射至待测样品并反射成一第一反射光;一反射元件,接收第二入射光并反射成一第二反射光;一光检测元件,接收第一反射光与第二反射光,以产生一干涉信号;一信号处理模块,耦接至光检测元件,信号处理模块接收干涉信号并对干涉信号进行空间微分处理,以得到待测样品的一解调图像。
搜索关键词: 干涉仪 及其 成像 方法
【主权项】:
一种具解调功能的干涉仪,适于检测一待测样品,该干涉仪包括:光源,提供一光束;分光元件,接收该光源所发出的光束,并将该光束分成第一入射光及第二入射光,其中该第一入射光入射至该待测样品并反射成第一反射光;反射元件,接收该第二入射光并反射成第二反射光;光检测元件,接收该第一反射光与该第二反射光,以产生一干涉信号;以及信号处理模块,耦接至该光检测元件,该信号处理模块接收该干涉信号并对该干涉信号进行空间微分处理,以得到该待测样品的解调图像。
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