[发明专利]沟槽中包括多衬垫层的半导体装置在审

专利信息
申请号: 201710805628.2 申请日: 2017-09-08
公开(公告)号: CN108133935A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 韩升煜;洪守珍;李昱烈 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L27/11
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;陈晓博
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开了一种半导体装置,所述半导体装置可以包括:半导体基底;沟槽隔离层,位于半导体基底上,并且被构造为限定有源区;多衬垫层,位于包括沟槽隔离层的沟槽的内侧壁上。多衬垫层可以包括位于沟槽的内侧壁上的第一衬垫层、位于第一衬垫层上的第二衬垫层以及位于第二衬垫层上的第三衬垫层。
搜索关键词: 衬垫层 半导体装置 半导体基底 沟槽隔离 内侧壁 源区
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置包括:半导体基底;沟槽隔离层,位于半导体基底上,并且被构造为限定有源区;多衬垫层,位于包括沟槽隔离层的沟槽的内侧壁上,其中,多衬垫层包括位于沟槽的内侧壁上的第一衬垫层、位于第一衬垫层上的第二衬垫层以及位于第二衬垫层上的第三衬垫层。
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