[发明专利]彩膜基板的制作方法在审
申请号: | 201710830822.6 | 申请日: | 2017-09-15 |
公开(公告)号: | CN107479246A | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 李文杰;井口真介 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提出了一种彩膜基板的制作方法,包括步骤提供一基板;在所述基板表面形成RGB色阻,所述RGB色阻的上表面为出光区域;在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵,所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面且未完全覆盖所述RGB色阻的出光区域;在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱;在所述基板的上方形成保护层。本发明通过改善对黑色矩阵和支撑柱的设计,即缩小了彩膜基板的厚度,也改善了光线透过彩膜基板发生的混色问题,进而提高了显示器件的显示质量。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤:步骤S10、提供一基板;步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻,所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区,每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块,所述RGB色阻的上表面包括出光区域;步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵,所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分;步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱,所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个;步骤S50、在所述基板的上方形成保护层,所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻;其中,采用所述支撑柱与所述黑色矩阵结合互补的设置用以防止所述RGB色阻出射光线相互混色。
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