[发明专利]微结构的制作方法、光调制器件、背光源、显示装置有效
申请号: | 201710840999.4 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN109521511B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 齐永莲;曲连杰;赵合彬;贵炳强;杨宪雪;刘帅;石广东 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种微结构的制作方法,包括:制作透光结构,所述透光结构包括透光基片和形成在该透光基片上的微凸起层,该微凸起层包括多个间隔设置且透光的微凸起,所述微凸起的尺寸为纳米级;在所述微凸起的顶面上形成绝缘间隔层;在所述透光基片表面上未被所述微凸起覆盖的区域和所述微凸起的侧面上形成反射层。相应地,本发明还提供一种光调制器件、背光源和显示装置。本发明能够准确地去除微凸起顶面上的金属反射层。 | ||
搜索关键词: | 微结构 制作方法 调制 器件 背光源 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种微结构的制作方法,其特征在于,包括:制作透光结构,所述透光结构包括透光基片和形成在该透光基片上的微凸起层,该微凸起层包括多个间隔设置且透光的微凸起;在所述微凸起的顶面上形成绝缘间隔层;在所述透光基片表面上未被所述微凸起覆盖的区域和所述微凸起的侧面上形成反射层。
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