[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201710891266.3 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107893211B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 久保纯也;今村聪;小川庆 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 11444 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龚敏;王刚<国际申请>=<国际公布>=< |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种能够使俯视时的遮蔽板的面积连续地变化，并抑制大型化的成膜装置。为达成上述目的，本发明的一个方面的成膜装置具备真空槽、成膜源、支撑架以及第一遮蔽机构。所述成膜源设置在所述真空槽内。所述支撑架设置在所述真空槽内。所述支撑架与所述成膜源相对，并能支撑工件。所述支撑架能够围绕第一轴旋转。所述第一遮蔽机构以能够围绕与所述第一轴交叉的第二轴旋转的方式设置在所述成膜源和所述支撑架之间。所述第一遮蔽机构包括从所述第一轴方向观察时在第一旋转位置具有第一面积、在第二旋转位置具有与所述第一面积不同的第二面积的第一遮蔽板。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于，/n所述成膜装置具备：/n真空槽；/n成膜源，其设置在所述真空槽内；/n支撑架，其设置在所述真空槽内，与所述成膜源相对并能够支撑工件，并且能够围绕第一轴旋转；以及/n第一遮蔽机构，其以能够围绕与所述第一轴交叉的第二轴旋转的方式设置在所述成膜源和所述支撑架之间，并包括第一遮蔽板，从所述第一轴方向观察时，所述第一遮蔽板在第一旋转位置具有第一面积，所述第一遮蔽板在第二旋转位置具有与所述第一面积不同的第二面积。/n
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