[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及记录介质

摘要

本发明提供一种能够抑制处理流体的消耗量且在短时间内进行使用超临界状态的处理流体来将液体从基板除去的干燥处理的基板处理方法、基板处理装置以及记录介质。基板处理方法包括以下工序：第一处理工序，将处理容器内的流体排出，直到成为不引起处理容器内存在的超临界状态的处理流体的气化的第一排出到达压力为止，之后，向处理容器内供给处理流体，直到成为不引起处理容器内的处理流体的气化的第一供给到达压力为止；第二处理工序，将处理容器内的流体排出，直到成为不引起超临界状态的处理流体的气化的第二排出到达压力为止，之后，向处理容器内供给处理流体，直到成为不引起处理容器内的处理流体的气化的第二供给到达压力为止。

主权项

一种基板处理方法，在处理容器内使用超临界状态的处理流体进行将液体从基板去除的干燥处理，所述基板处理方法包括以下工序：第一处理工序，将所述处理容器内的流体排出，直到所述处理容器内成为不引起所述处理容器内存在的超临界状态的所述处理流体的气化的第一排出到达压力为止，之后，向所述处理容器内供给所述处理流体，直到所述处理容器内成为比所述第一排出到达压力高且不引起所述处理容器内的所述处理流体的气化的第一供给到达压力为止；以及第二处理工序，在所述第一处理工序之后，将所述处理容器内的流体排出，直到所述处理容器内成为不引起超临界状态的所述处理流体的气化的与所述第一排出到达压力不同的第二排出到达压力为止，之后，向所述处理容器内供给所述处理流体，直到所述处理容器内成为比所述第二排出到达压力高且不引起所述处理容器内的所述处理流体的气化的第二供给到达压力为止。