[发明专利]一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示装置

摘要

本发明涉及显示技术领域，公开一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示装置。阵列基板的制备方法包括：在衬底基板的一侧形成钝化层的膜层；在所述钝化层的膜层上形成金属反射层的图形；通过构图工艺在所述钝化层的膜层上形成钝化层过孔，并在所述金属反射层中用于与源漏电极层连接的电极覆盖区内形成减薄区域。在形成钝化层过孔的构图工艺过程中，同时在金属反射层中用于与源漏电极层连接的电极覆盖区内形成减薄区域，可将电极覆盖区内的至少一部分保护膜去除，从而可提高电极覆盖区域的导电性能，改善了由于金属反射层的表面形成的保护膜导致的导电材料和金属反射层之间的接触导电性降低、进而导致显示装置产生亮暗不均的问题。

主权项

一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板的一侧形成钝化层的膜层；在所述钝化层的膜层上形成金属反射层的图形；通过构图工艺在所述钝化层的膜层上形成钝化层过孔，并在所述金属反射层中用于与源漏电极层连接的电极覆盖区内形成减薄区域。