[发明专利]瞬态抑制二极管芯片结构在审

专利信息
申请号: 201710977881.6 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN107731818A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 喻先坤 申请(专利权)人: 东莞市阿甘半导体有限公司
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所44287 代理人: 胡海国,赵爱蓉
地址: 523000 广东省东莞市松山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种瞬态抑制二极管芯片结构,该瞬态抑制二极管芯片结构包括第一导电类型衬底层;形成于第一导电类型衬底层一表面的第一导电类型注入层;形成于第一导电类型衬底层与第一导电类型注入层之间的第二导电类型外延层;以及隔离结构,隔离结构贯穿第一导电类型注入层及第二导电类型外延层,将第一导电类型注入层及第二导电类型外延层分隔成两个及以上区域。本发明技术方案设计芯片电极位于同一侧实现免封装,降低成本。
搜索关键词: 瞬态 抑制 二极管 芯片 结构
【主权项】:
一种瞬态抑制二极管芯片结构,其特征在于,包括第一导电类型衬底层;形成于第一导电类型衬底层一表面的第一导电类型注入层;形成于第一导电类型衬底层与第一导电类型注入层之间的第二导电类型外延层;以及隔离结构,所述隔离结构贯穿所述第一导电类型注入层及所述第二导电类型外延层,将所述第一导电类型注入层及所述第二导电类型外延层分隔成两个及以上区域。
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